ANSEROS安索罗斯臭氧发生器

近年来，在半导体工业中，对臭氧的应用越来越多。臭氧被广泛运用在晶圆清洗和电子元件清洗中。德国ANSEROS安索罗斯臭氧发生器MEGAGEN系列COM-VD在半导体加工等方面发挥重大作用。

臭氧发生器COM-VD系列产品优势：

ANSEROS安索罗斯臭氧发生器COM-VD系列是专门为获得高浓度臭氧而设计的。在低氧气消耗量的气相中，臭氧最高浓度可达到 300g O3/Nm3。

MEGAGEN系列臭氧发生器COM-VD能与ANSEROS安索罗斯AOPR反应器配合使用，其质量转移效果非常好，可以将大量的臭氧转换成液相，从而达到强力去除COD的目的。

臭氧发生器MEGAGEN COM-VD系列数据表

臭氧发生器COM-VD系列产品特点：

最高臭氧浓度

低耗氧量

低功耗

相关反应性高

低AOPR(高级氧化工艺)能耗

臭氧发生器COM-VD系列产品应用：

+ AOP(高级氧化技术)污水处理、去除COD

+ HOXON®废水系统, API废水

+ 半导体加工（如晶圆清洗，电子元件臭氧清洗）

+ 除臭

+ 研发

+ 药品生产

臭氧发生器在半导体晶圆清洗上的应用

晶圆清洗是目前半导体生产线上最重要、最严谨的工序之一，在很多的清洗工序中，只要有一道工序达不到要求，就会导致征辟的芯片的报废和流程不顺畅，传统的RCA清洗法需要大量的化学试剂，带来了成本的增加以及均匀性不一致的问题，而臭氧是一种具有较高氧化性的气体，把它溶解在超纯水中，喷洒在晶圆表面，可以将表面的有机污染物氧化为二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有机物，同时还会在晶圆表面形成一层致密的氧化膜。因此德国ANSEROS安索罗斯臭氧发生器非常适合运用在半导体特别是晶圆清洗上。

部分客户展示

臭氧发生器COM-VD系列产品规格：

翁开尔是德国ANSEROS安索罗斯中国总代理，了解更多关于德国ANSEROS安索罗斯臭氧发生器，欢迎致电【13202947058】咨询。